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Caratteristiche tecniche TFT-LCD
Sep 15, 2017

Tecnologia TFT è sviluppata in anni 1990, uso su larga scala di nuovi materiali e nuove tecnologie di tecnologia di produzione di circuiti integrati a semiconduttore, a cristalli liquidi (LC), inorganici e film sottile organico elettroluminescente (EL e OEL) basato su schermo piatto visualizzare. TFT è in vetro o plastica substrato, come non singolo chip (anche in cialda) di sputtering, creando un processo di deposizione chimica necessaria per la produzione del circuito cinematografico, circuiti integrati a semiconduttore elaborazione attraverso la membrana (LSIC) . Usando il cristallo non singolo substrato può notevolmente ridurre il costo ed è l'estensione del tradizionale circuito integrato su larga scala a grande area, multi-funzione e basso costo. È più difficile per la fabbricazione di TFT su una vasta area di vetro o plastica substrato per controllare le prestazioni di commutazione di IC (LC o OLED) che su wafer di silicio. Per i requisiti dell'ambiente di produzione (il grado di purificazione di 100), la purezza della materia prima requisiti (purezza del gas elettronico speciale è 99.999985%), le attrezzature di produzione e requisiti di tecnologia di produzione sono più che il Semiconductor LSI, è la tecnologia top della produzione moderna. Le sue caratteristiche principali sono:

  

(1) Grande area: all'inizio degli anni ' 90 la prima generazione di grande area vetro substrato (300 * 400 mm) TFT-LCD linea di produzione, prima metà del 2000 area di substrato vetro è stata ampliata fino a 680 mm * 880 mm), che dovrebbe iniziare a 09 anni di giapponese SHARP investimento in Osaka 10 linea di generazione 2880mmX3080mm dimensioni raggiunte substrato di vetro, le dimensioni del pannello di vetro possono tagliare 15 pezzi di tv LCD da 42 pollici.

  

(2) Alta integrazione: 1,3 pollici TFT Lettore chip per proiettore LCD, risoluzione XGA, contenente milioni di pixel. Spessore del film SXGA risoluzione (1280 x 1024) cristallo non silicio 16,1 pollici TFT matrice è solo 50nm, tecnologia vetro scheda, ON e ON SYSTEM, l'integrazione di IC dei requisiti tecnici, attrezzature e materiali, difficoltà tecniche sono più che il tradizionale LSI.

  

(3) Potente: TFT era originariamente utilizzato come un circuito di posizione di matrice per migliorare le caratteristiche di valve luce dei cristalli liquidi. Per gli schermi ad alta risoluzione, controllo preciso degli elementi oggetto avviene mediante regolazione della tensione nel range 0-6V (in genere 0,2-4V), rendendo possibile per LCD ottenere alta qualità, alta risoluzione display. TFT-LCD è che il primo pannello piatto Visualizza nella storia umana per qualità di visualizzazione sopra CRT. Ora, persone stanno iniziando a integrare drive IC sul substrato di vetro, e l'intero TFT sarà più potente, che è incomparabile con il circuito integrato di semiconduttori su larga scala tradizionale.

  

(4) Basso costo: substrato di vetro e plastica substrato fondamentalmente risolve il problema del costo dei circuiti integrati a semiconduttore su larga scala e aprire uno spazio di ampia applicazione per applicazioni di circuiti integrati a semiconduttore su larga scala.

  

(5) Oltre all'utilizzo della tecnologia flessibile: CVD (sputtering, chemical vapor deposition (MCVD) molecolare deposizione chimica da vapore) e altri film di artigianato tradizionale, laser tecnologia di ricottura è utilizzato, che può produrre pellicole policristalline amorfo, film, anche in grado di produrre film di cristallo singolo. Non solo può essere fatto il film di silicio, ma anche possono essere realizzati altri altri film di semiconduttori di secondo e sesto gruppo.

  

(6) L'ampia applicazione e pannello LCD basato su tecnologia TFT è l'industria di pilastro nella società dell'informazione, la tecnologia può essere applicata anche a un film sottile organico transistor è rapidamente crescendo in fotoluminescenza (TFT-OLED) monitor a schermo piatto è rapida crescita.