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I tipi di visualizzazione LCD
Apr 17, 2017

Generalmente, display LCD è diviso in quattro categorie principali secondo l'applicazione, tra cui: Twistwd cristalli liquidi nematico (TN-LCD), super ritorto cristalli liquidi nematico (STN-LCD), Thin Film Transistor-LCD (TFT-LCD) e bassa temperatura visualizzazione policristallino silicio a cristalli liquidi (LTPS-LCD), in cui TN e STN sono infatti il tipo di LCD, mentre TFT e LTPS sono i diversi componenti dell'interruttore, poiché i pannelli LCD in bianco e nero precoci sono matrici passivi, sia TN e STN apparirà, e ora stiamo introducendo le loro differenze.

TN-LCD

La torsione di cristallo liquido nematico (TN) molecola divide in strati tra due vetri conduttivi, ogni strato di molecole di cristalli liquidi ruotare un angolo, e il primo strato e l'ultimo strato di molecole di cristalli liquidi ruotare l'angolo "inferiore a 90 °". Torsione al cristallo colonna di tipo liquido (tn) di ciascuno strato di rotazione molecolare del angolo è piccolo, nel punto di vista chimico chiamiamo questa molecola cristalli liquidi "energia è inferiore, relativamente stabile", quando abbiamo applicato tensione, LCD basamento sul vetro, le molecole TN relativamente stabili come se "sdraiata sulle molecole di vetro, molto stabili e confortevole", quindi dalla reazione tensione esterna è più lenta, ci vuole molto tempo per stare sul vetro, questo display LCD di nero- in bianco e la velocità di reazione è più lenta.

Vantaggi: Tensione di azionamento dal basso, basso consumo energetico, basso costo di produzione.

Svantaggio: La velocità di reazione è lenta, ha il verificarsi ombra residua, adatta solo a rendere la visualizzazione in bianco e nero.

Applicazione: contatore elettronico, calcolatrice elettronica, dizionario elettronico.

STN-LCD

Cristallo liquido nematico super ruotato (STN) molecole sarà suddiviso in una pluralità di strati tra due pezzi di vetro, le molecole di cristallo liquido di ciascuno strato ruoteranno un angolo, e il primo strato e l'ultimo strato di molecole di cristalli liquidi "angolo di rotazione maggiore di 90 gradi (180 gradi a 240 gradi), come mostrato nella Figura cinque (b) mostrata. Super twisted cristallo liquido nematico (STN) di ciascuno strato della rotazione molecolare è relativamente grande, nel punto di vista della chimica sulla le molecole di cristallo liquido chiamiamo questa "alta energia, meno stabilità", quando abbiamo applicato tensione, il display staranno sul vetro, la molecola STN instabile come molecolare squat" nel bicchiere, è molto instabile e scomodo, in modo da applicare tensione quando confrontato con la reazione rapidamente, subito si sul vetro, e la velocità di reazione a cristalli liquidi di visualizzazione è più veloce.

Vantaggi: La velocità di reazione è più veloce di TN, rendendo il TFT facile.

Svantaggi: La velocità di reazione non è ancora abbastanza veloce, adatto solo per scala di grigi o il display a colori ad alta.

Applicazione: cellulare a colori, colore Personal Digital Assistant (PDA), macchina fotografica digitale.

TFT-LCD

Thin Film Transistor (TFT) controllo di ciascun pixel è fabbricata direttamente sul vetro, usiamo deposizione di vapore chimico (CVD) crescita di uno strato di silicio amorfo sul vetro sopra il transistor a film sottile (TFT) fabbricato sul silicio amorfo sopra, perché il substrato di vetro è "amorfo" così facendo l'interruttore a quanto sopra è il "amorfo". La temperatura di transizione vetrosa "(temperatura Trnasition)" circa 300 ° C, la temperatura di trasformazione è effettivamente "rammollimento", che si riscalda fino a 300 ° C vetro inizierà ad ammorbidire, quindi la temperatura di processo non può superare i 300 ° C, o vetro molle off. Nel processo di temperatura inferiore a 300 ° C sotto la condizione di utilizzo deposizione di vapore chimico (CVD) in transistor a film sottile sopra la lavorazione del vetro "silicio amorfo" (TFT), noto come "bassa temperatura di silicio amorfo (a bassa temperatura amorfo silicio)", è quello che chiamiamo 'sottile display a cristalli liquidi film transistor (TFT)' è l'uso del processo silicio amorfo a bassa temperatura.

Vantaggi: La velocità di reazione è più veloce rispetto al STN, può fare display a colori.

Svantaggi: Thin Film Transistor difficoltà di produzione, costano più elevata conducibilità STN, silicio amorfo, così pilotaggio in tensione è superiore, conduttività silicio amorfo non è buono consumo di energia così alta, transistor a film sottile di silicio amorfo più grande, più basso tasso di apertura.

pplicazione: LCD a colori, computer portatile, TV LCD.

In effetti, l'uso di monitor di produzione di polisilicio può essere diviso in "alta temperatura poli silicio (HTPS)" e "bassa temperatura poli silicio (LTPS)" Due tipi:

Alta temperatura silicio poly

A causa del transistor a film sottile fabbricati usando silicio amorfo (TFT), scarsa conducibilità, velocità di lavoro bassa, se si vuole aumentare la velocità di lavoro, è necessario utilizzare la "Silicon" meglio, purtroppo, perché il vetro è amorfo, è non possibile coltivare sulla piastra di base di vetro sul silicio amorfo, gli scienziati hanno ritenuto una buona idea è quella di utilizzare "annealing (Anneal)", la temperatura del materiale solido, raffreddando poi lentamente formando policristallino. ci sarà "vetro e silicio amorfo film sottile" in un forno ad alta temperatura, riscaldamento a 600 ° C, e poi lentamente raffreddata a temperatura ambiente, si può diventare un "processo" del film sottile di silicio policristallino, chiamato "polisilicio ad alta temperatura (HTPS)".

La temperatura di transizione vetrosa di circa 300 ° C, il vetro riscaldamento fino a 600 ° C vetro inizierà ad ammorbidire, quindi in polisilicio (HTPS) processo ad alta temperatura non può utilizzare vetro come supporto deve essere di vetro conduttivo vetro "(Glass)" sostituito "quarzo (quarzo)" per il quarzo (quarzo "cristallo") è silice, alta temperatura di fusione fino a 1200 ° C, ma il prezzo è alto, e la dimensione del quarzo grande, prezzo è un aumento serie geometrica (e diamante simili), quindi il polisilicio ad alta temperatura (HTPS) non possono essere utilizzate in grandi dimensione di display a cristalli liquidi è bassa, primi sono utilizzati in cristalli liquidi "schermo di proiezione in alta risoluzione, piccolo pannello LCD dimensioni, di solito meno di 3 pollici. Sul LCD schermo di proiezione sarà descritto in dettaglio più avanti.

Bassa temperatura di silicio poly

Dall'introduzione di cui sopra non è difficile da trovare, infatti, vogliamo "annealing (Anneal)" è solo una parte del transistor a film sottile (TFT), il substrato di vetro e transistor a film sottile in tutta forno ad alta temperatura riscaldata è sciocco, si potrebbe desiderare di pensare e vedere, quale metodo può riscaldare solo il thin film transistor in grado di mantenere il substrato di vetro a bassa temperatura? Scienziati intelligenti hanno inventato una nuova tecnologia chiamata laser ricottura (annealing Laser) "vetro e silicio amorfo film sottile" in forno di ricottura laser, utilizzando incidente laser ad alta energia alla lente, e quindi concentrarsi su amorfo riscaldamento film di silicio, riscaldamento a 600 ° C, e poi lentamente raffreddata a temperatura ambiente, si può diventare un "film di polisilicio", sotto l'acqua di raffreddamento del forno di ricottura laser, può substrato di vetro viene mantenuta ad una temperatura inferiore a 300 ° C, come un semplice metodo di voi tale è non il pensiero?

Vantaggi: La velocità di reazione più veloce, la conduttività del silicio policristallino è così meglio la tensione di pilotaggio è bassa, transistor a film sottile di silicio policristallino sono più piccoli, in modo che il tasso di apertura è alto.

Svantaggi: la tecnologia laser ricottura non è maturo, resa del prodotto è bassa.

Applicazione: LCD a colori, computer portatile, TV LCD.